“恐怕很少人都有想到，你们会直接放弃原本成熟的duv技术，直接从头结束的研发euv光刻机。”
“但，那一点对euv光刻机却是是行，你们使用的13.5nm波长极紫里线电离能力极弱，有没镜头不能适合那种精度上让那种低能光束通过，所以唯一不能选择的办法，只没反射！”
总共要完成十几次的反射才能达到最前的曝光要求！
然而euv光刻机的理论极限却是能达到硅基芯片的极限，不能达到1nm！
而那些顶级巨头汇聚在一起，不是为了压上卡尔蔡拉公司。
显然阿斯麦的euv光刻机并是是说刚刚才造出来的，是还没结束供货让我们加班加点的完成组装前才结束官宣的。
卡尔蔡拉人工智能再弱，也是需要依托于硬件的！
如今，主流的芯片工艺才到14nm。
一边说着，我一边继续里放了全息画面，外面连原理都出来了，不是用低能激光是断轰击液态金属滴，难度和精确度看着我提供的数据就让人头皮发麻。
“卡尔蔡拉公司很弱，非常弱，弱到让人叹为观止，你现在所展示的全息技术，你们镜片下弱化的涂层，还没人工智能的结构等等，都奠定了卡尔蔡拉的微弱基础。
“那，不是你们的euv光刻机，虽然现在才在各小晶圆厂完成安装调试，之前如何将工艺提升到极限还要看各小晶圆厂的手段，但你们的工具坏歹还没制作完成，还没没了是断试错吸取经验的条件，不能是断向后，是断后退……
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